主要應(yīng)用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細(xì)研磨及分散:
1) Color paste / Color filter / TFT LCD :R﹑G﹑B﹑Y 等已成功地分散研磨到納米級(jí),透明度需超過90%,粘度控制在 5-15 CPS,含水率在1%以下。
2) Ink-jet Inks:顏料型Ink-jetInks 已成功地分散研磨到納米級(jí),粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry:半導(dǎo)體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達(dá)納米級(jí)且能滿足無金屬離子析出要求。
4) TiOPc (optical contact):應(yīng)用于雷射列表機(jī)光鼓上所涂布光導(dǎo)體,已研磨分散到納米級(jí)。
5) 納米級(jí)粉體研磨,如TiO2﹑ZrO2﹑Al2O3﹑ZnO﹑Clay﹑CaCo3﹑…,可分散研磨到30 nm。
6) 納米級(jí)粉體分散。如將納米粉體分散到高分子,或?qū)⒓{米級(jí)粉體添加到塑膠﹑橡膠等進(jìn)行分散。
7) 醫(yī)藥達(dá)到納米級(jí)要求,且需能滿足FDA 要求。
8) 食品添加劑達(dá)到納米級(jí)之要求。如β胡蘿卜素…,需滿足GMP 要求。
9) 電子化學(xué)品達(dá)到納米級(jí)需求,且需能滿足無金屬離子析出問題。
10)其他特種軍工, 航空納米材料。
11)如:電子產(chǎn)業(yè)﹑光電產(chǎn)業(yè)﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑化纖產(chǎn)業(yè)﹑建材產(chǎn)業(yè)﹑金屬產(chǎn)業(yè) 磁性材料﹑保健品﹑生物制藥和細(xì)胞破碎﹑氧化物﹑納米材料﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑肥皂、皮革、電子陶瓷、導(dǎo)電漿料、膠印油墨、紡織品、噴繪油墨、芯片拋光液、細(xì)胞破碎、化妝品、噴墨墨水、金屬納米材料、塑料材料、特種納米航空材料等行業(yè)。
型號(hào) | 研磨腔容積 (L) |
處理量 (L/H) |
主電機(jī)功率 (KW) |
葉輪轉(zhuǎn)速 (rpm) |
攪拌筒容積 (L) |
用球量 (L) |
CXM-120 | 1 | 1-10L | 4 | 0-2000 | 50 | 0.8L |
CXM-230 | 5 | 230L | 11 | 0-1400 | 400 | 4L |
CXM-320 | 10 | 500L | 22 | 0-1400 | 1000 | 8L |
CXM-468 | 20 | 1000L | 45 | 0-960 | 1500 | 16L |